在正常運行一段時間后,反滲透膜元個會受到在給水中可能存在的懸浮物質(zhì)或難溶物質(zhì)的污染,這些污染物中最常見的為碳酸鈣垢、硫酸鈣垢、金屬氧化物垢、硅沉積物及有機或生物沉積物。 污染物的性質(zhì)及污染速度與給水條件有關(guān),污染是慢慢發(fā)展的,如果不早期采取措施,污染將會在相對短的時間內(nèi)損壞膜元件的性能。 定期檢測系統(tǒng)整體性能是確認(rèn)膜元件發(fā)生污染的一個好方法,不同的污染物會對膜元件性能造成不同程度的損害。表中列出了常見污染物對膜性能的影響。 上表對應(yīng)的常見清洗液如下: 按現(xiàn)場的分析狀況可根據(jù)具體情況具體搭配。 污染物的去除可通過化學(xué)清洗和物理沖洗來實現(xiàn),有時亦可通過改變運行條件來實現(xiàn),作為一般的原則,當(dāng)下列情形之一發(fā)生時應(yīng)進(jìn)行清洗。 1.在正常壓力下如出水流量降至正常值的10~15%; 2.為了維持正常的出水流量,經(jīng)溫度校正后的給水壓力增加了10~15%; 3.出水水質(zhì)降低10~15%。鹽透過率增加10~15%; 4.使用壓力增加 10~15%; 5.RO各段間的壓差增加明顯(也許沒有儀表來監(jiān)測這一跡象); 1.碳酸鈣垢 在阻垢劑添加系統(tǒng)出現(xiàn)故障或加酸系統(tǒng)出現(xiàn)故障而導(dǎo)致給水 pH 升高,那么碳酸鈣就有可能沉積出來。應(yīng)盡早發(fā)現(xiàn)碳酸鈣垢沉淀的發(fā)生,以防止生長的晶體對膜表面產(chǎn)生損傷,如早期發(fā)現(xiàn)碳酸鈣垢,可以用降低給水 pH 至 3.0 ~ 5.0 之間運行 1 ~ 2 小時的方法去除。對沉淀時間更長的碳酸鈣垢,則應(yīng)采用檸檬酸清洗液進(jìn)行循環(huán)清洗或通宵浸泡。 注:應(yīng)確保任何清洗液的 pH 不要低于 2.0 ,盃則可能會 RO 膜元件造成損害,特別是在溫度較高時更應(yīng)注意,最高的 pH 不應(yīng)高于 11.0 。查使用氨水來提高 pH ,使用硫酸或鹽酸來降低 pH 值。 2.硫酸鈣垢 三聚磷酸鈉溶液(參見上表中三聚磷酸鈉溶液)是將硫酸鈣垢從反滲透膜表面去除掉的最佳方法。 3.金屬氧化物垢 可以使用上面所述的去除碳酸鈣垢的方法,很容易地去除沉積下來的氫氧化物 ( 例如氫氧化鐵 ) 。 4.硅垢 對于不是與金屬化物或有機物共生的硅垢,一般只有通過專門的清洗方法才能將他們?nèi)コ?/span>。 5.有機沉積物 有機沉積物(例如微生物粘泥或霉斑)可以使用上表清洗液 3 去除,為了防止再繁殖,可使用殺菌溶液在系統(tǒng)中循環(huán)、浸泡,一般需較長時間浸泡才能有效,如反滲透裝置停用三天時,最好采用消毒處理。 6.清洗液 清洗反滲透膜元件時建議采用上表所列的清洗液。確定清洗前對污染物進(jìn)行化學(xué)分析十分重要的,對分析結(jié)果的詳細(xì)分析比較,可保證選擇最佳的清洗劑及清洗方法,應(yīng)記錄每次清洗時清洗方法及獲得的清洗效果,為在特定給水條件下,找出最佳的清洗方法提供依據(jù)。 對于無機污染物建議使用清洗液 1.對于硫酸鈣及有機物建議使用清洗液 2.對于嚴(yán)重有機物污染建議使用清洗液 3.所有清洗可以在最高溫度為40℃下清洗 60 分鐘,所需用品量以每 100 加侖(379 升)中加入量計,配制清洗液時按比例加入藥品及清洗用水,應(yīng)采用不含游離氯的反滲透產(chǎn)品水來配制溶液并混合均勻。 清洗時將清洗溶液以低壓大流量在膜的高壓側(cè)循環(huán),此時膜元件仍裝壓力容器內(nèi)而且需要用專門的清洗裝置來完成該工作。 1.用泵將干凈、無游離氯的反滲透產(chǎn)品水從清洗箱 ( 或相應(yīng)水源 ) 打入壓力容器中并排放幾分鐘。 2.用潔凈的水在清洗箱中配制清洗液。 3.將清洗液在壓力容器中循環(huán) 1 小時或預(yù)先設(shè)定的時間,對于 8 英寸或8.5 英寸壓力容器時,流速為 35~40 加侖 / 分鐘 (133~151 升 / 分鐘 ) ,對于 6 英寸壓力容器流速為 15~20 加侖 / 分鐘 (57~76 升 / 分鐘 ) ,對于 4英寸壓力容器流速為 9~10 加侖 / 分鐘 (34~38 升 / 分鐘 ) 4.清洗完成以后,排凈清洗箱并進(jìn)行沖洗,然后向清洗箱中充滿干凈的水以備下一步?jīng)_洗。 5.用泵將干凈、無游離氯的水從清洗箱 ( 或相應(yīng)水源 ) 打入壓力容器中并排放幾分鐘。 6.在沖洗反滲透系統(tǒng)后,在排放閥打開狀態(tài)下運行反滲透系統(tǒng),直到產(chǎn)品水清潔、無泡沫或無清洗劑(通常需 15~30 分鐘) . 1.細(xì)菌污染 一般特征:脫鹽率可能降低、系統(tǒng)壓降明顯增加、系統(tǒng)產(chǎn)水量明顯降低; 清洗方法:pH值10,2%三聚磷酸鈉溶液,0.8%EDTA四鈉(嚴(yán)重時更換為0.25%的Na-DDBS),溫度40℃;0.1%NaOH和0.03%SDS,pH=11.5。 2.硫酸鈣污染 一般特征:脫鹽率明顯降低、系統(tǒng)壓降稍有或適度增加、系統(tǒng)產(chǎn)水量稍有降低; 清洗方法:pH值10,2%三聚磷酸鈉溶液,0.8%EDTA四鈉(嚴(yán)重時更換為0.25%的Na-DDBS),溫度40℃;有時也可用pH小于10的NaOH水溶液清洗。 3.有機物沉淀 一般特征:脫鹽率可能降低、系統(tǒng)壓降逐漸升高、系統(tǒng)產(chǎn)水量逐漸降低; 清洗方法:pH值10,2%三聚磷酸鈉溶液,0.8%EDTA四鈉(嚴(yán)重時更換為0.25%的Na-DDBS),溫度40℃。 4.氧化物/氫氧化物(鐵、鎳、銅)污染 一般特征:脫鹽率明顯下降、系統(tǒng)壓降明顯升高、系統(tǒng)產(chǎn)水量明顯降低 清洗方法:氨水調(diào)pH值4,2%的檸檬酸溶液,溫度40℃,有時也可以用pH2-3(0.5%)的鹽酸水溶液清洗。 5.無機鹽沉淀物污染 一般特征:脫鹽率明顯下降、系統(tǒng)壓降增加、系統(tǒng)產(chǎn)水量稍降 清洗方法:2%檸檬酸溶液,氨水調(diào)pH值4,溫度40℃,也可用pH2-3(0.5%)的鹽酸水溶液清洗。 6.各種膠體(鐵、有機物及硅膠體)污染 一般特征:脫鹽率稍有將低、系統(tǒng)壓降稍有上升、系統(tǒng)產(chǎn)水量逐漸減少。 清洗方法:硫酸調(diào)pH值10,0.2%三聚磷酸鈉STTP溶液,溫度40℃;有時也可以用pH小于10的NaOH水溶液清洗。 清洗配方一 1%-2%檸檬酸溶液或0.4%HCl溶液,適用于鐵污染及碳酸鹽結(jié)晶污堵; 清洗配方二 0.2%NaClO+0.1%NaOH溶液,適用于清洗由有機物及活性生物引起的膜組件的污染; 清洗配方三 0.3%H2O2+0.3%NaOH溶液,適用于清洗由谷氨酸發(fā)酵液引起的膜組件的污染; 清洗配方四 1%甲醛溶液,適用于細(xì)菌污染的超濾; 清洗配方五 HNO3的0.5%水溶液,適用于電泳漆處理過程中磷酸鉛對膜組件造成的污堵(此清洗必須在其他常規(guī)化學(xué)清洗之后進(jìn)行。); 清洗配方六 20%的Na2CO3、7%的Na3PO4、3%的NaOH、0.5%的EDTA,主要用于膠體污染物造成的膜污染; 清洗配方七 9%的十二烷基苯磺酸鈉、9%的表面活性劑、0.4%的NaOH、0.15的無水碳酸鈉、11%的磷酸鈉、10%的硅酸鈉,清洗時需注意pH的控制,有些膜不適用于高pH清洗液的清洗,要慎重選擇,主要用于清洗含油廢水所造成的膜污染; 清洗配方八 3%的H3PO4、0.5%的乙二胺四乙酸二鈉、0.5%的LBOW專用清洗劑,主要用于清洗蛋白質(zhì)和油脂污染物造成的污染。 清洗配方九 20%的H2SO4,主要用于硅垢結(jié)晶造成的污染。 RO膜元件是反滲透設(shè)備系統(tǒng)中最重要的部分,其日常維護的好壞直接影響到系統(tǒng)出水水質(zhì)的好壞,這里對于反滲透膜的清洗方法加以概述,系統(tǒng)說明反滲透膜在運行中可能出現(xiàn)的污染物以及相對應(yīng)的清洗方法。反滲透膜元件的污染物
污染物的去除
常見污染物及其去除方法
清洗反滲透膜元件的一般步驟
反滲透膜污染特征及處理方法
反滲透膜清洗幾種常用配方